Показать сокращенную информацию

dc.contributor.authorИбраева, А.Д.
dc.contributor.authorЯнсе Ван Вуурен, А.
dc.contributor.authorСкуратов, В.А.
dc.contributor.authorЗдоровец, М.В.
dc.date.accessioned2023-08-15T04:23:00Z
dc.date.available2023-08-15T04:23:00Z
dc.date.issued2019
dc.identifier.issn2616-6836
dc.identifier.urihttp://rep.enu.kz/handle/enu/4827
dc.description.abstractНастоящая работа посвящена определению порогового уровня ионизационных потерь энергии образования латентных треков Set в поликристаллическом нитриде кремния на основе анализа данных по радиационно-стимулированной аморфизации материала. Образцы Si 3 N 4 (Al) были облучены ионами Xe с энергиями 167 МэВ и 220 МэВ высокой плотности (6 × 10 14 и 2 × 10 14 см −2 соответственно). На основе ПЭМ анализа структуры этих образцов в геометрии поперечного сечения определена нижняя граница Set на уровне ˜ 6,7 кэВ/нм.ru
dc.language.isootherru
dc.publisherЕНУ им. Л.Н. Гумилеваru
dc.subjectнитрид кремнияru
dc.subjectбыстрые тяжелые ионыru
dc.subjectлатентные трекиru
dc.subjectаморфизацияru
dc.subjectПЭМru
dc.titleК вопросу об определении порогового уровня ионизационных потерь энергии образования латентных треков в кристаллическом Si3 N4ru
dc.typeArticleru


Файлы в этом документе

Thumbnail

Данный элемент включен в следующие коллекции

Показать сокращенную информацию