REPOSITORY.ENU

ФОРМИРОВАНИЕ К И N ИЗЛУЧАТЕЛЬНЫХ ЦЕНТРОВ В СЛОЯХ Si3N4/SiO2/Si МЕТОДОМ ОБЛУЧЕНИЯ БЫСТРЫМИ ТЯЖЕЛЫМИ ИОНАМИ

Файлы в этом документе

Данный элемент включен в следующие коллекции

Поиск в DSpace


Просмотр

Моя учетная запись